晶圓技術(shù)及缺漏檢測解決方案
半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展,對晶圓質(zhì)對量的要求也越來越高。光刻工藝復(fù)雜度提高的同時,缺陷 法來源越來越多元化,對缺陷的檢測需求逐步增加”。傳統(tǒng)的生產(chǎn)線中,缺陷的檢測主要依靠人工肉眼檢測,該方法有低效率、高誤檢率、易受主觀因素影響等缺點,已不能 缺尾滿足現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)的需要, 隨著計算機(jī)技術(shù)與圖像處理技術(shù)的發(fā)展 ,視覺自行檢測技術(shù)在各領(lǐng)域中被廣泛應(yīng)用。
為降低晶圓缺陷對半導(dǎo)體制造的影響, 在基于改進(jìn)的多重中值濾波算法的基礎(chǔ)上,以差影法為基本原理,采用歸一化互相關(guān)的模版匹配方法實現(xiàn)晶圓表面繞府檢測,改進(jìn)多重中值濾波算法有效實現(xiàn)噪聲點與非噪聲點的分辨,歸一化模板匹配算法對光照具有很好的魯棒性。采用形態(tài)學(xué)濾波算法和區(qū)域融合的分水嶺算法對晶圓缺陷的提取進(jìn)行了研究;實現(xiàn)了半導(dǎo)體器件塑封缺陷的檢測,并提出一種雙模版的匹配方法?;贚abVIEW和IMAQ模塊,利用自行設(shè)計的硬件平臺,以差影法為基本原理,采用歸一化互相關(guān)(NCC)的模版匹配方法,對晶圓的缺陷檢測進(jìn)行進(jìn)一步的研究,以提高算法的實時性和有效性。
聯(lián)系方式:0755-81753034
5:全自動位移工作臺,可編程軌跡運(yùn)動。
6:檢測時間:300/ms視野范圍內(nèi)檢測。
四:設(shè)備外觀圖
正面
描述:晶圓出現(xiàn)空缺,設(shè)備設(shè)置發(fā)現(xiàn)空缺進(jìn)行不良提示,存儲圖片??杖蔽恢貌挥嫈?shù)。
華顯光學(xué)儀器實驗室對大量的晶粒進(jìn)行實驗,實驗結(jié)果表明,自動位移,自動計數(shù),自動檢測完全滿足要求可有效檢測出晶圓表面的缺陷,精度達(dá)到15um左右,所提檢測算法在實際應(yīng)用中可代替人工,快速準(zhǔn)確地實現(xiàn)晶圓的缺陷檢測。