●精準探測 · 突破極限 · 洞察無形
隨著半導體技術的飛速發(fā)展，對材料分析和缺陷檢測的要求也越來越高。紅外顯微鏡作為一種非破壞性檢測工具，在半導體行業(yè)中發(fā)揮著重要作用。華顯光學LM-150紅外顯微鏡，搭載先進紅外光譜技術，以非侵入式、高靈敏度檢測能力，讓不可見變?yōu)榭梢?，解鎖物質成分、結構及動態(tài)的深層奧秘。
工作原理
?光源發(fā)射：紅外光源發(fā)射出特定波長的紅外光。
?樣品照射：紅外光穿透樣品，與樣品內部結構相互作用。
?信號接收：探測器接收透過樣品的光信號。
? 圖像生成：通過計算機處理，生成樣品的紅外圖像。
核心優(yōu)勢
? 高靈敏度成像：突破光學衍射極限，納米級分辨率呈現(xiàn)微觀結構與化學成分分布。
? 非破壞性檢測：無需復雜制樣，保持樣品原始狀態(tài)，尤其適合珍貴或敏感樣本。
? 智能分析系統(tǒng)：AI輔助光譜解析，一鍵生成成分圖譜，科研效率提升50%+。
? 廣泛適用性：支持固體、液體、薄膜等多種形態(tài)樣品，兼容反射、透射及ATR模式。
常規(guī)可見光顯微鏡圖像 LM-150 IR 紅外無損穿透
應用場景
? 材料科學：高分子材料缺陷分析、半導體器件微區(qū)成分檢測
? 生物醫(yī)學：細胞代謝成像、藥物分布可視化、病理組織快速篩查
? 環(huán)境監(jiān)測：微塑料識別、污染物溯源、土壤礦物成分鑒定
? 文物保護：古畫顏料分析、文物修復無損評估
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